Résultats de la recherche - Granier, Agnès (1961-....)
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ETUDE DU PROCEDE DE DEPOT DE COUCHES MINCES D'OXYDE DE SILICIUM EN PLASMA HELICON O#2/TEOS / par NICOLAZO, FREDERIC.
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2
Dépôt à basse température de couches minces d'oxyde de silicium élaborées en plasma oxygène / organosilicié dans un réacteur hélicon / par Vallée, Christophe (19..-....; microélectronicien)
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3
Analyse expérimentale et modélisation du dépôt de films de Ti-Si-N par pulvérisation réactive r.f. magnétron / par Le Brizoual, Laurent (1973-....)
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4
ETUDE COMPARATIVE DES PROCEDES DE DEPOT DE COUCHES MINCES PAR PLASMA D'ORGANOSILICIES : TEOS, HMDSO ET HMDSN / par AUMAILLE, KARINE.
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Élaboration par plasma d'hexaméthyldisiloxane de couches minces à faible constante diélectrique pour applications aux interconnexions en CMOS / par Borvon, Gaël (1974-...)
Publié 2003Cote: Chargement en cours…
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6
Synthèse par PECVD et caractérisation de nanotubes de carbone orientés / par Point, Sébastien (1975-...)
Publié 2005Cote: Chargement en cours…
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7
Dépôt de couches minces par plasma pulsé radiofréquence et basse pression en mélange hexaméthyldisiloxane / oxygène / par Bousquet, Angélique (1979-...)
Publié 2005Cote: Chargement en cours…
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8
Amélioration et caractérisation de l'autocicatrisation dans les condensateurs à films de polypropylène métallisés / par Guilet, Stéphane (1974-...)
Publié 2003Cote: Chargement en cours…
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9
Élaboration de couches minces diélectriques d’oxydes de titane et de silicium à forte permittivité et indice optique par procédé plasma PECVD basse pression / par Elisabeth, Stéphane (1988-....)
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10
Élaboration de couches minces diélectriques d’oxydes de titane et de silicium à forte permittivité et indice optique par procédé plasma PECVD basse pression / par Elisabeth, Stéphane (1988-....)
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11
Mise au point de matériaux barrières diélectriques de type 1-SiC:H à faible permittivité déposés par PECVD pour réduire la capacité intermétallique dans les interconnexions avancée... par Charles-Alfred, Cédric (1983-....)
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Etude des propriétés de couches minces d'oxyde de titane déposées par procédés plasmas (PECVD, pulvérisation magnétron réactive DC et HPPMS) / par Makaoui, Karim (1981-....)
Publié 2012Cote: Chargement en cours…
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Etude des propriétés de couches minces d'oxyde de titane déposées par procédés plasmas (PECVD, pulvérisation magnétron réactive DC et HPPMS) par Makaoui, Karim (1981-....)
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14
Propriétés structurales et électriques de couches d’oxyde de silicium élaborées par plasma basse température d’oxygène/tétraethoxysilane sur des alliages silicium-germanium /... par Goregho, Didier (19XX-....)
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Plasmas froids : Astrophysique, aérospatial, environnement, biologie, nanomatériaux : [Quatrièmes Journées d'échanges du Réseau plasmas froids, Bonascre, 9-12 octobre 2005] /
Publié 2006Cote: Chargement en cours…
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16
La métallisation de surface polymère par procédés plasmas : étude de l’adhésion à l’interface métal/polymère / par Lambaré, Charlène (1988-.…)
Publié 2014Cote: Chargement en cours…
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17
La métallisation de surface polymère par procédés plasmas : étude de l’adhésion à l’interface métal/polymère / par Lambaré, Charlène (1988-.…)
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Dépôt de couches minces de TiO2 – SiO2 par association plasma et sol-gel : impact du procédé de dépôt et de la composition sur les propriétés, application à l'optique intégrée /... par Mitronika, Maria (1993-....)
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19
Architecture alternative de modules photovoltaïques à base de couches minces de Cu(In,Ga)Se2 / par Lorthioir, Justine (1991-....)
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20
Synthèse, caractérisation, et propriétés de couches minces nanocomposites nickel/carbone et cuivre/carbone déposées par procédés plasmas / par Bouts, Nicolas (1987-.…)
Publié 2014Cote: Chargement en cours…
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