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Étude des propriétés des couches d'oxynitrure de silicium obtenues par la nitruration thermique rapide : "Dégradation-Vieillissement"
La nitruration superficielle des couches d'oxyde de silicium d'épaisseur 45 nm est réalisée a haute température (1060c) par la technique r. T. N (rapid thermal nitridation) pendant une durée variant de quelques secondes a une dizaine de minutes. L'analyse physico-chimique (x. P. S) a...
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| Auteurs principaux : | , |
|---|---|
| Collectivités auteurs : | , |
| Format : | Thèse ou mémoire |
| Langue : | français |
| Titre complet : | Étude des propriétés des couches d'oxynitrure de silicium obtenues par la nitruration thermique rapide : "Dégradation-Vieillissement" / Abdelillah Benbrik; sous la direction de R. Le Bihan |
| Publié : |
1992 |
| Description matérielle : | 1 vol. (129 f.) |
| Note de thèse : | Thèse de doctorat : Chimie : Nantes : 1992 |
| Sujets : | |
| Particularités de l'exemplaire : | BU Sciences, 92 NANT 2047 : Titre temporairement indisponible à la communication |
| LEADER | 03388cam a2200541 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | PPN044215541 | ||
| 003 | http://www.sudoc.fr/044215541 | ||
| 005 | 20240829055200.0 | ||
| 029 | |a FR |b 1992NANT2047 | ||
| 035 | |a (OCoLC)490456608 | ||
| 035 | |a thS-00076596 | ||
| 035 | |a TC93-0299081 | ||
| 100 | |a 19990313d1992 k y0frey0103 ba | ||
| 101 | 0 | |a fre |d fre |2 639-2 | |
| 102 | |a FR | ||
| 105 | |a a ma 000yy | ||
| 106 | |a r | ||
| 181 | 1 | |6 z01 |c txt |2 rdacontent | |
| 181 | 1 | |6 z01 |a i# |b xxxe## | |
| 182 | 1 | |6 z01 |c n |2 rdamedia | |
| 182 | 1 | |6 z01 |a n | |
| 183 | 1 | |6 z01 |a nga |2 RDAfrCarrier | |
| 200 | 1 | |a Étude des propriétés des couches d'oxynitrure de silicium obtenues par la nitruration thermique rapide |e "Dégradation-Vieillissement" |f Abdelillah Benbrik |g sous la direction de R. Le Bihan | |
| 214 | 1 | |d 1992 | |
| 215 | |a 1 vol. (129 f.) |c ill. |d 30 cm | ||
| 316 | |5 441092104:057966036 |a Titre temporairement indisponible à la communication | ||
| 320 | |a Bibliogr. 98 réf. | ||
| 328 | 0 | |b Thèse de doctorat |c Chimie |e Nantes |d 1992 | |
| 330 | |a La nitruration superficielle des couches d'oxyde de silicium d'épaisseur 45 nm est réalisée a haute température (1060c) par la technique r. T. N (rapid thermal nitridation) pendant une durée variant de quelques secondes a une dizaine de minutes. L'analyse physico-chimique (x. P. S) a permis de mettre en évidence la nitruration de la surface de la couche d'oxyde et de contrôler les phénomènes de migration d'azote a l'interface si/sio#2. Le pic d'azote a l'interface apparait des 60 secondes, le coefficient de diffusion diminue rapidement et atteint 3,37 10##1#4 cm#2/s a 10 minutes. La caractérisation électrique des structures de test al/oxyde nitrure/si(n) a 1 mhz nous a permis, d'une part, d'établir une corrélation entre la constante diélectrique et l'indice moyen de réfraction optique, d'autre part, de suivre l'évolution de la tension de bandes plates, de la charge image dans l'isolant, de la tension de claquage et de la rigidité diélectrique du matériau en fonction de la nitruration. La méthode b. T. S. (bias temperature stress) a révélé l'existence de charges mobiles dans nos structures. L'ensemble de ces résultats a permis d'interpréter correctement la dégradation des éléments mis sous contraintes électrique et thermique. | ||
| 541 | | | |a Study of properties of the nitrided silicon oxide obtained by rapid thermal nitridation degradation-ageing |z eng | |
| 606 | |3 PPN030762111 |a Nitruration |2 rameau | ||
| 606 | |3 PPN031435815 |a Spectroscopie tunnel |2 rameau | ||
| 606 | |3 PPN02768394X |a Silice |2 rameau | ||
| 608 | |3 PPN027253139 |a Thèses et écrits académiques |2 rameau | ||
| 610 | 1 | |a Nitruration thermique rapide | |
| 610 | 2 | |a Spectroscopie de photoélectrons XPS | |
| 610 | 2 | |a Effet tunnel Fowler-Nordheim | |
| 610 | 2 | |a Effet Poole Frenkel | |
| 686 | |a 540 |2 TEF | ||
| 700 | 1 | |3 PPN254523552 |a Benbrik |b Abdelillah |f 19..-.... |4 070 | |
| 701 | 1 | |3 PPN119909596 |a Mouzard |b Alain |4 727 | |
| 711 | 0 | 2 | |3 PPN026403447 |a Université de Nantes |c 1962-2021 |4 295 |
| 711 | 0 | 2 | |3 PPN033124884 |a Université de Nantes |b Faculté des sciences et des techniques |4 295 |
| 801 | 3 | |a FR |b Abes |c 20231217 |g AFNOR | |
| 979 | |a SCI | ||
| 930 | |5 441092104:057966036 |b 441092104 |a 92 NANT 2047 |j g | ||
| 991 | |5 441092104:057966036 |a Exemplaire modifié automatiquement le 18-07-2024 18:18 | ||
| 998 | |a 835445 | ||