ETUDE DES MECANISMES DE GRAVURE DU SI A BASSE TEMPERATURE PAR UN FAISCEAU PLASMA DE SF#6 EXTRAIT D'UNE SOURCE D'IONS A DECHARGE MICRO-ONDE
CE MEMOIRE PRESENTE UNE ETUDE DES MECANISMES DE GRAVURE DU SILICIUM A BASSE TEMPERATURE PAR UN FAISCEAU PLASMA DE SF#6 EXTRAIT D'UNE SOURCE D'IONS A DECHARGE MICRO-ONDE. L'APPROCHE EXPERIMENTALE CHOISIE REPRODUIT L'INTERACTION D'UN PLASMA HAUTE DENSITE AVEC UNE SURFACE REFRO...
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Format : | Thèse ou mémoire |
Langue : | français |
Titre complet : | ETUDE DES MECANISMES DE GRAVURE DU SI A BASSE TEMPERATURE PAR UN FAISCEAU PLASMA DE SF#6 EXTRAIT D'UNE SOURCE D'IONS A DECHARGE MICRO-ONDE / THIERRY CHEVOLLEAU; SOUS LA DIRECTION DE CHRISTOPHE CARDINAUD |
Publié : |
[S.l.] :
[s.n.]
, 1998 |
Description matérielle : | 226 P. |
Note de thèse : | Thèse de doctorat : Sciences appliquées : Nantes : 1998 |
Sujets : | |
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ETUDE DES MECANISMES DE GRAVURE DU SI A BASSE TEMPERATURE PAR UN FAISCEAU PLASMA DE SF#6 EXTRAIT D'UNE SOURCE D'IONS A DECHARGE MICRO-ONDE |
Particularités de l'exemplaire : | BU Sciences, Ex. 1 : Titre temporairement indisponible à la communication BU Sciences, Ex. 2 : Titre temporairement indisponible à la communication |
BU Sciences
| Cote | Prêt | Statut |
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Communication impossible | 98 NANT 2030 | Empruntable | Disponible |
Communication impossible | 98 NANT 2030 | Exclu du prêt | Disponible |