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ETUDE DES MECANISMES DE GRAVURE DU SI A BASSE TEMPERATURE PAR UN FAISCEAU PLASMA DE SF#6 EXTRAIT D'UNE SOURCE D'IONS A DECHARGE MICRO-ONDE
CE MEMOIRE PRESENTE UNE ETUDE DES MECANISMES DE GRAVURE DU SILICIUM A BASSE TEMPERATURE PAR UN FAISCEAU PLASMA DE SF#6 EXTRAIT D'UNE SOURCE D'IONS A DECHARGE MICRO-ONDE. L'APPROCHE EXPERIMENTALE CHOISIE REPRODUIT L'INTERACTION D'UN PLASMA HAUTE DENSITE AVEC UNE SURFACE REFRO...
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| Format : | Thèse ou mémoire |
| Langue : | français |
| Titre complet : | ETUDE DES MECANISMES DE GRAVURE DU SI A BASSE TEMPERATURE PAR UN FAISCEAU PLASMA DE SF#6 EXTRAIT D'UNE SOURCE D'IONS A DECHARGE MICRO-ONDE / THIERRY CHEVOLLEAU; SOUS LA DIRECTION DE CHRISTOPHE CARDINAUD |
| Publié : |
[S.l.] :
[s.n.]
, 1998 |
| Description matérielle : | 226 P. |
| Note de thèse : | Thèse de doctorat : Sciences appliquées : Nantes : 1998 |
| Sujets : | |
| Documents associés : | Reproduit comme:
ETUDE DES MECANISMES DE GRAVURE DU SI A BASSE TEMPERATURE PAR UN FAISCEAU PLASMA DE SF#6 EXTRAIT D'UNE SOURCE D'IONS A DECHARGE MICRO-ONDE |
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