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Technologie microélectronique : du silicium aux circuits intégrés
Enregistré dans:
| Auteur principal : | |
|---|---|
| Format : | Manuel |
| Langue : | français |
| Titre complet : | Technologie microélectronique : du silicium aux circuits intégrés / Olivier Bonnaud,.. |
| Publié : |
Paris :
Ellipses
, DL 2008 |
| Description matérielle : | 1 vol. (VI-150 p.) |
| Collection : | Technosup (Paris) Les Cours de l'École supérieure d'électricité |
| Sujets : |
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| 320 | |a Bibliogr. p. 149-150. Index | ||
| 359 | 2 | |b I, Introduction à la technologie |b II, Obtention du silicium de qualité microélectronique |b III, Fabrication des plaquettes de silicium |b Chapitres V à X : Étapes technologiques : l'épitaxie, la diffusion, l'implantation ionique, l'oxydation, les dépôts, la gravure, la photolithogravure |b Chapitres XI et XII, Procédés de fabrication : diodes et transistors bipolaires, transistors MOS |b XIII, Amélioration des procédés technologiques |b XIV, Historique et évolution des technologies |b XV, Microélectronique grande surface | |
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