Gravure de l InP par plasma ICP chloré et HBr/Ar : modélisation multiéchelle et analyse XPS

Gravure de l InP par plasma ICP chloré et HBr/Ar : modélisation multiéchelle et analyse XPS

Dans le cadre de l ANR Blanc INCLINE (Inductively Coupled Plasmas for CMOS compatible etchINg of high performance III-V integrated laser sourceEs), nous avons développé un simulateur de gravure de l InP par plasmas ICP Cl2/Ar/N2 et HBr/Ar. Ce simulateur est basé sur une approche multiéchelle composé...

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Auteurs principaux : Chanson Romain (Auteur), Rhallabi Ahmed (Directeur de thèse)
Collectivités auteurs : Université de Nantes Faculté des sciences et des techniques (Autre partenaire associé à la thèse), Université de Nantes 1962-2021 (Organisme de soutenance), École doctorale Matériaux, Matières, Molécules en Pays de la Loire (3MPL) Le Mans 2008-2021 (Organisme de soutenance)
Format : Thèse ou mémoire
Langue : français
Titre complet : Gravure de l InP par plasma ICP chloré et HBr/Ar : modélisation multiéchelle et analyse XPS / Romain Chanson; sous la direction de Ahmed Rhallabi
Publié : [S.l.] : [s.n.] , 2012
Description matérielle : 1 vol. (190 p.)
Condition d'utilisation et de reproduction : Publication autorisée par le jury
Note de thèse : Thèse de doctorat : Science des matériaux : Nantes : 2012
Sujets :
Gravure par plasma
Phosphure d'indium
Optoélectronique
CMOS > Composants > Chloré
Thèses et écrits académiques
Documents associés : Reproduit comme: Gravure de l InP par plasma ICP chloré et HBr/Ar
Reproduit comme: Gravure de l'InP par plasma ICP chloré et HBr/Ar
Particularités de l'exemplaire : BU Sciences, Ex. 1 :
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