Modélisation complète de la gravure profonde de silicium par procédé cryogénique à base de plasma SF 6 /O 2 /Ar
La gravure sèche par plasma est considérée comme une des techniques génériques qui a contribué à la miniaturisation des circuits intégrés. Dans cette étude, nous avons développé un simulateur multiéchelle de gravure profonde du silicium par procédé cryogénique. Ce simulateur est composé de quatre mo...
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Auteurs principaux : | , , , , , , , |
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Collectivités auteurs : | , , , |
Format : | Livre |
Langue : | français |
Titre complet : | Modélisation complète de la gravure profonde de silicium par procédé cryogénique à base de plasma SF 6 /O 2 /Ar / Yehya Haidar; sous la direction de Ahmed Rhallabi ; co-directeur Fadia Taher ; co-encadrants Arezki Mokrani, Doumit Zaouk |
Publié : |
Nantes :
Université de Nantes
, 2016 |
Description matérielle : | 1 vol. (137 p.) |
Accès en ligne : |
Accès Nantes Université
|
Note de thèse : | Thèse de doctorat : Matériaux Plasma : Nantes : 2016 Thèse de doctorat : Matériaux Plasma : Université Libanaise : 2016 |
Disponibilité : | Publication autorisée par le jury |
Sujets : |
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