DEPOT PLASMA DANS UNE VAPEUR D'ORGANOMETALLIQUE DE FILMS MINCES D'OXYDES D'ALUMINIUM

DEPOT PLASMA DANS UNE VAPEUR D'ORGANOMETALLIQUE DE FILMS MINCES D'OXYDES D'ALUMINIUM

MISE AU POINT D'UN REACTEUR POUR LA CROISSANCE DE COUCHES MINCES D'OXYDES D'AL A BASSE TEMPERATURE. L'ATMOSPHERE DE DEPOT EST UN MELANGE AL(CH::(3))::(3)-CO::(2). LA CINETIQUE DE CROISSANCE DEPEND FORTEMENT DES PARAMETRES DE LA DECHARGE ELECTRIQUE. IMPORTANT EFFET DE LA TEMPERATU...

Description complète

Enregistré dans:
Détails bibliographiques
Auteurs principaux : TALEBIAN ALI-ASGHAR (Auteur), Grolleau Bernard (Directeur de thèse)
Collectivité auteur : Université de Nantes 1962-2021 (Organisme de soutenance)
Format : Thèse ou mémoire
Langue : français
Titre complet : DEPOT PLASMA DANS UNE VAPEUR D'ORGANOMETALLIQUE DE FILMS MINCES D'OXYDES D'ALUMINIUM / ALI-ASGHAR TALEBIAN; SOUS LA DIRECTION DE BERNARD GROLLEAU
Publié : [S.l.] : [s.n.] , 1986
Description matérielle : 123 P.
Note de thèse : Thèse de 3e cycle : Chimie : Nantes : 1986
Sujets :
CHIMIE : CHIMIE MINERALE ET ORIGINE DE LA VIE
COUCHE MINCE/DEPOT CHIMIQUE PHASE VAPEUR/APPAREILLAGE/ALUMINIUM COMPOSE ORGANIQUE/CARBONE DIOXYDE|ENT/PROPRIETE PHYSIQUE/REACTEUR CHIMIQUE/BASSE TEMPERATURE/PROPRIETE OPTIQUE/ALUMINIUM OXYDE|FIN/ALUMINIUM(TRIMETHYL)|ENT
THIN FILM/CHEMICAL VAPOR DEPOSITION/INSTRUMENTATION/ALUMINIUM ORGANIC COMPOUNDS/CARBON DIOXIDE/PHYSICAL PROPERTIES/CHEMICAL REACTOR/LOW TEMPERATURE/OPTICAL PROPERTIES/ALUMINIUM OXIDES
Thèses et écrits académiques
Documents associés : Reproduit comme: DEPOT PLASMA DANS UNE VAPEUR D'ORGANOMETALLIQUE DE FILMS MINCES D'OXYDES D'ALUMINIUM
Particularités de l'exemplaire : BU Sciences, Ex. 1 :
Titre temporairement indisponible à la communication

BU Sciences

Informations d'exemplaires de BU Sciences
‌ Cote Prêt Statut
Communication impossible 86 NANT 2042 Empruntable Disponible
Communication impossible 86 NANT 2042 Exclu du prêt Disponible