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DEPOT PLASMA DANS UNE VAPEUR D'ORGANOMETALLIQUE DE FILMS MINCES D'OXYDES D'ALUMINIUM
MISE AU POINT D'UN REACTEUR POUR LA CROISSANCE DE COUCHES MINCES D'OXYDES D'AL A BASSE TEMPERATURE. L'ATMOSPHERE DE DEPOT EST UN MELANGE AL(CH::(3))::(3)-CO::(2). LA CINETIQUE DE CROISSANCE DEPEND FORTEMENT DES PARAMETRES DE LA DECHARGE ELECTRIQUE. IMPORTANT EFFET DE LA TEMPERATU...
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| Auteurs principaux : | , |
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| Collectivité auteur : | |
| Format : | Thèse ou mémoire |
| Langue : | français |
| Titre complet : | DEPOT PLASMA DANS UNE VAPEUR D'ORGANOMETALLIQUE DE FILMS MINCES D'OXYDES D'ALUMINIUM / ALI-ASGHAR TALEBIAN; SOUS LA DIRECTION DE BERNARD GROLLEAU |
| Publié : |
[S.l.] :
[s.n.]
, 1986 |
| Description matérielle : | 123 P. |
| Note de thèse : | Thèse de 3e cycle : Chimie : Nantes : 1986 |
| Sujets : | |
| Documents associés : | Reproduit comme:
DEPOT PLASMA DANS UNE VAPEUR D'ORGANOMETALLIQUE DE FILMS MINCES D'OXYDES D'ALUMINIUM |
| Particularités de l'exemplaire : | BU Sciences, Ex. 1 : Titre temporairement indisponible à la communication |
| Résumé : | MISE AU POINT D'UN REACTEUR POUR LA CROISSANCE DE COUCHES MINCES D'OXYDES D'AL A BASSE TEMPERATURE. L'ATMOSPHERE DE DEPOT EST UN MELANGE AL(CH::(3))::(3)-CO::(2). LA CINETIQUE DE CROISSANCE DEPEND FORTEMENT DES PARAMETRES DE LA DECHARGE ELECTRIQUE. IMPORTANT EFFET DE LA TEMPERATURE DE DEPOT. PROPRIETES PHYSIQUES DE CES COUCHES |
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| Variantes de titre : | PLASMA DEPOSITION IN AN ORGANOMETALLIC VAPOR OF ALUMINIUM OXIDE THIN LAYERS |
| Bibliographie : | 72 REF |