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DEPOT PLASMA DANS UNE VAPEUR D'ORGANOMETALLIQUE DE FILMS MINCES D'OXYDES D'ALUMINIUM
MISE AU POINT D'UN REACTEUR POUR LA CROISSANCE DE COUCHES MINCES D'OXYDES D'AL A BASSE TEMPERATURE. L'ATMOSPHERE DE DEPOT EST UN MELANGE AL(CH::(3))::(3)-CO::(2). LA CINETIQUE DE CROISSANCE DEPEND FORTEMENT DES PARAMETRES DE LA DECHARGE ELECTRIQUE. IMPORTANT EFFET DE LA TEMPERATU...
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| Auteurs principaux : | , |
|---|---|
| Collectivité auteur : | |
| Format : | Thèse ou mémoire |
| Langue : | français |
| Titre complet : | DEPOT PLASMA DANS UNE VAPEUR D'ORGANOMETALLIQUE DE FILMS MINCES D'OXYDES D'ALUMINIUM / ALI-ASGHAR TALEBIAN; SOUS LA DIRECTION DE BERNARD GROLLEAU |
| Publié : |
[S.l.] :
[s.n.]
, 1986 |
| Description matérielle : | 123 P. |
| Note de thèse : | Thèse de 3e cycle : Chimie : Nantes : 1986 |
| Sujets : | |
| Documents associés : | Reproduit comme:
DEPOT PLASMA DANS UNE VAPEUR D'ORGANOMETALLIQUE DE FILMS MINCES D'OXYDES D'ALUMINIUM |
| Particularités de l'exemplaire : | BU Sciences, Ex. 1 : Titre temporairement indisponible à la communication |
| LEADER | 02731cam a2200517 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | PPN043536166 | ||
| 003 | http://www.sudoc.fr/043536166 | ||
| 005 | 20240829055200.0 | ||
| 029 | |a FR |b 1986NANT2042 | ||
| 035 | |a (OCoLC)1247725999 | ||
| 035 | |a thS-00044579 | ||
| 035 | |a DYNIX_BUNAN_203840 | ||
| 100 | |a 19990313d1986 |||||frey0103 ba | ||
| 101 | 0 | |a fre |d fre |2 639-2 | |
| 102 | |a FR | ||
| 105 | |a ||||m ||||| | ||
| 181 | |6 z01 |c txt |2 rdacontent | ||
| 181 | 1 | |6 z01 |a i# |b xxxe## | |
| 182 | |6 z01 |c n |2 rdamedia | ||
| 182 | 1 | |6 z01 |a n | |
| 183 | |6 z01 |a nga |2 RDAfrCarrier | ||
| 200 | 1 | |a DEPOT PLASMA DANS UNE VAPEUR D'ORGANOMETALLIQUE DE FILMS MINCES D'OXYDES D'ALUMINIUM |f ALI-ASGHAR TALEBIAN |g SOUS LA DIRECTION DE BERNARD GROLLEAU | |
| 210 | |a [S.l.] |c [s.n.] |d 1986 | ||
| 215 | |a 123 P. |d 30 cm | ||
| 316 | |5 441092104:179800906 |a Titre temporairement indisponible à la communication | ||
| 320 | |a 72 REF | ||
| 328 | 0 | |b Thèse de 3e cycle |c Chimie |e Nantes |d 1986 | |
| 330 | |a MISE AU POINT D'UN REACTEUR POUR LA CROISSANCE DE COUCHES MINCES D'OXYDES D'AL A BASSE TEMPERATURE. L'ATMOSPHERE DE DEPOT EST UN MELANGE AL(CH::(3))::(3)-CO::(2). LA CINETIQUE DE CROISSANCE DEPEND FORTEMENT DES PARAMETRES DE LA DECHARGE ELECTRIQUE. IMPORTANT EFFET DE LA TEMPERATURE DE DEPOT. PROPRIETES PHYSIQUES DE CES COUCHES | ||
| 456 | | | |0 259512389 |t DEPOT PLASMA DANS UNE VAPEUR D'ORGANOMETALLIQUE DE FILMS MINCES D'OXYDES D'ALUMINIUM |f Ali-Asghar Talebian |d 1986 |c Grenoble |n Atelier national de reproduction des thèses |p Microfiches |s Grenoble-thèses | |
| 541 | | | |a PLASMA DEPOSITION IN AN ORGANOMETALLIC VAPOR OF ALUMINIUM OXIDE THIN LAYERS |z eng | |
| 608 | |3 PPN027253139 |a Thèses et écrits académiques |2 rameau | ||
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| 610 | 2 | |a COUCHE MINCE/DEPOT CHIMIQUE PHASE VAPEUR/APPAREILLAGE/ALUMINIUM COMPOSE ORGANIQUE/CARBONE DIOXYDE|ENT/PROPRIETE PHYSIQUE/REACTEUR CHIMIQUE/BASSE TEMPERATURE/PROPRIETE OPTIQUE/ALUMINIUM OXYDE|FIN/ALUMINIUM(TRIMETHYL)|ENT | |
| 610 | 2 | |a THIN FILM/CHEMICAL VAPOR DEPOSITION/INSTRUMENTATION/ALUMINIUM ORGANIC COMPOUNDS/CARBON DIOXIDE/PHYSICAL PROPERTIES/CHEMICAL REACTOR/LOW TEMPERATURE/OPTICAL PROPERTIES/ALUMINIUM OXIDES | |
| 686 | |a 001.C.02.B.01 |2 tlt | ||
| 686 | |a 540 |2 TEF | ||
| 700 | 1 | |a TALEBIAN |b ALI-ASGHAR |4 070 | |
| 701 | 1 | |a Grolleau |b Bernard |4 727 | |
| 711 | 0 | 2 | |3 PPN026403447 |a Université de Nantes |c 1962-2021 |4 295 |
| 801 | 3 | |a FR |b Abes |c 20231217 |g AFNOR | |
| 979 | |a SCI | ||
| 915 | |5 441092104:179800906 |a 1160256568 |b 1160256568 | ||
| 919 | |5 441092104:179800906 |a 1160256568 | ||
| 930 | |5 441092104:179800906 |b 441092104 |j g | ||
| 991 | |5 441092104:179800906 |a Exemplaire modifié automatiquement le 18-07-2024 18:01 | ||
| 998 | |a 224241 | ||