Caractérisation par spectrométrie de photoélectrons des étapes de réalisations du transistor bipolaire a hétéro jonction gaalas/gaas, et en particulier de la gravure ionique réactive du contact ohmique Gemow sur gaas

Une partie de ce memoire porte sur l'étude des étapes technologiques nécessaires pour la réalisation du transistor bipolaire a hétérojonction gaalas/gaas en structure autoalignée. Nous avons, essentiellement par la technique d'analyse xps (spectrométrie de photoélectrons x), détermine la c...

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Détails bibliographiques
Auteurs principaux : Campo Alain (Auteur), Cardinaud Christophe (Directeur de thèse)
Collectivité auteur : Université de Nantes 1962-2021 (Organisme de soutenance)
Format : Thèse ou mémoire
Langue : français
Titre complet : Caractérisation par spectrométrie de photoélectrons des étapes de réalisations du transistor bipolaire a hétéro jonction gaalas/gaas, et en particulier de la gravure ionique réactive du contact ohmique Gemow sur gaas / Alain Campo; sous la dir. de Christophe Cardinaud
Publié : [S.l.] : [s.n.] , 1994
Description matérielle : 227 f.
Condition d'utilisation et de reproduction : Publication autorisée par le jury
Note de thèse : Thèse de doctorat : Sciences appliquées : Nantes : 1994
Sujets :
Documents associés : Reproduit comme: Caractérisation par spectrométrie de photoélectrons des étapes de réalisations du transistor bipolaire a hétéro jonction gaalas/gaas, et en particulier de la gravure ionique réactive du contact ohmique Gemow sur gaas
Particularités de l'exemplaire : BU Sciences, Ex. 1 :
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Communication impossible 94 NANT 2015 Empruntable Disponible
Communication impossible 94 NANT 2015 Exclu du prêt Disponible