ETUDE DE L'IMPLANTATION IONIQUE A HAUTE ENERGIE DE BORE ET D'OXYGENE DANS LE SILICIUM

ETUDE DE L'IMPLANTATION IONIQUE A HAUTE ENERGIE DE BORE ET D'OXYGENE DANS LE SILICIUM

CETTE THESE EST CONSACREE A L'ETUDE DE L'IMPLANTATION IONIQUE AVEC DES FAISCEAUX DE HAUTE ENERGIE, DANS LA GAMME DU MEV. TROIS ASPECTS PRINCIPAUX Y SONT ABORDES QUE SONT LA CARACTERISTION DE PROFILS IMPLANTES. L'ETUDE DE LA CREATION DE DEFAUTS ET LA SYNTHESE D'UNE COUCHE D'O...

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Auteur principal : Thevenin Philippe (Auteur)
Collectivité auteur : Université Louis Pasteur Strasbourg 1971-2008 (Organisme de soutenance)
Autres auteurs : Siffert Paul (Directeur de thèse)
Format : Thèse ou mémoire
Langue : français
Titre complet : ETUDE DE L'IMPLANTATION IONIQUE A HAUTE ENERGIE DE BORE ET D'OXYGENE DANS LE SILICIUM / PHILIPPE THEVENIN; SOUS LA DIRECTION DE PAUL SIFFERT
Publié : [S.l.] : [s.n.] , 1991
Description matérielle : 134 p
Note de thèse : Thèse Doctorat : Physique : Strasbourg 1 : 1991
Sujets :
PHYSIQUE : ETAT CONDENSE : PROPRIETES MECANIQUES ET THERMIQUES
IMPLANTATION IONIQUE/HAUTE ENERGIE/SILICIUM/PROFIL/DEFAUTS/OXYDE ENTERRE/ANALYSE PAR CANALISATION/DISPERSION TRANSVERSALE
Thèses et écrits académiques
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