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Analyse expérimentale et modélisation du dépôt de films de Ti-Si-N par pulvérisation réactive r.f. magnétron
Cette thèse a pour thème l'étude expérimentale et la modélisation du dépôt de films minces de Ti-Si-N par pulvérisation réactive r.f. magnétron. Ces couches minces sont élaborées par pulvérisation d'une cible de Ti5Si3 dans un mélange réactif argon/azote. L'objectif de cette étude est...
Enregistré dans:
| Auteurs principaux : | , |
|---|---|
| Collectivité auteur : | |
| Format : | Thèse ou mémoire |
| Langue : | français |
| Titre complet : | Analyse expérimentale et modélisation du dépôt de films de Ti-Si-N par pulvérisation réactive r.f. magnétron / Laurent Le Brizoual; [sous la dir. de] Granier Agnès |
| Publié : |
[S.l.] :
[s.n.]
, 2000 |
| Description matérielle : | 183 p. |
| Condition d'utilisation et de reproduction : | Publication autorisée par le jury |
| Note de thèse : | Thèse de doctorat : Science des matériaux, plasma, couches minces : Nantes : 2000 |
| Sujets : | |
| Documents associés : | Reproduit comme:
Analyse expérimentale et modélisation du dépôt de films de Ti-Si-N par pulvérisation réactive r.f. magnétron |
| Particularités de l'exemplaire : | BU Sciences, Ex. 1 : Titre temporairement indisponible à la communication BU Sciences, Ex. 2 : Titre temporairement indisponible à la communication |
BU Sciences
| | Cote | Prêt | Statut |
|---|---|---|---|
| Communication impossible | 00 NANT 2125 | Empruntable | Disponible |
| Communication impossible | 00 NANT 2125 | Exclu du prêt | Disponible |