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Gravure et traitement par plasma de matériaux organosiliciés SiOC(H) pour des applications en lithographie avancée et comme isolant d'interconnexion en microélectronique
L'objet de cette étude est la gravure par plasma de nouveaux matériaux, SiOC(H). Leurs propriétés ajustables entre organiques et inorganiques leurs donnent de grandes potentialités en microélectronique. Premièrement, l'étude se porte sur des applications en lithographie optique avec de nou...
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| Auteurs principaux : | , |
|---|---|
| Collectivités auteurs : | , |
| Format : | Thèse ou mémoire |
| Langue : | français |
| Titre complet : | Gravure et traitement par plasma de matériaux organosiliciés SiOC(H) pour des applications en lithographie avancée et comme isolant d'interconnexion en microélectronique / David Eon; sous la dir. de Christophe Cardinaud |
| Publié : |
[S.l.] :
[s.n.]
, 2004 |
| Description matérielle : | 241 p. |
| Condition d'utilisation et de reproduction : | Publication autorisée par le jury |
| Note de thèse : | Thèse doctorat : Science des matériaux : Nantes : 2004 |
| Sujets : | |
| Documents associés : | Autre format:
Gravure et traitement par plasma de matériaux organosiliciés SiOC(H) pour des applications en lithographie avancée et comme isolant d'interconnexion en microélectronique Reproduit comme: Gravure et traitement par plasma de matériaux organosiliciés SiOC(H) pour des applications en lithographie avancée et comme isolant d'interconnexion en microélectronique |
| Particularités de l'exemplaire : | BU Sciences, Ex. 1 : Titre temporairement indisponible à la communication |
BU Sciences
| | Cote | Prêt | Statut |
|---|---|---|---|
| Communication impossible | 2004 NANT 2111 | Empruntable | Disponible |
| Communication impossible | 2004 NANT 2111 | Exclu du prêt | Disponible |