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Simulation de procédés de gravure par faisceau ionique assistée chimiquement des matériaux III-V
Dans le cadre d un contrat RMNT en collaboration avec Elvion Veeco, LPN et Alcaltel OPTO+, nous avons développé un modèle 2D de gravure de GaAs par Ar+/Cl2 en utilisant le procédé CAIBE (Chemically Assisted Ion Beam Etching). Deux types de structures ont été étudiés : des structures mesas ou rubans...
Enregistré dans:
| Auteurs principaux : | , , |
|---|---|
| Collectivités auteurs : | , , |
| Format : | Thèse ou mémoire |
| Langue : | français |
| Titre complet : | Simulation de procédés de gravure par faisceau ionique assistée chimiquement des matériaux III-V / Lassaad Elmonser; sous la direction de Jean-Pierre Landesman et Ahmed Rhallabi |
| Publié : |
[S.l.] :
[s.n.]
, 2006 |
| Description matérielle : | 1 vol. (164 p.) |
| Condition d'utilisation et de reproduction : | Publication autorisée par le jury |
| Note de thèse : | Thèse doctorat : Électronique : Nantes : 2006 |
| Sujets : | |
| Documents associés : | Reproduit comme:
Simulation de procédés de gravure par faisceau ionique assistée chimiquement des matériaux III-V |
| Particularités de l'exemplaire : | BU Sciences, Ex. 1 : Titre temporairement indisponible à la communication |
BU Sciences
| | Cote | Prêt | Statut |
|---|---|---|---|
| Communication impossible | 2006 NANT 2090 | Empruntable | Disponible |
| Communication impossible | 2006 NANT 2090 | Exclu du prêt | disponible |