Simulation multi-échelle de la gravure profonde du silicium par procédé Bosch
Cette étude porte sur le développement d une approche multi-échelle pour la simulation de la gravure profonde du silicium par procédé Bosch. Ce travail a été effectué dans le cadre d un contrat CIFRE entre l Institut des Matériaux Jean Rouxel et STMicroelectronics Tours. Cette approche multi-échelle...
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Auteurs principaux : | , , , , , , |
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Collectivités auteurs : | , , |
Format : | Thèse ou mémoire |
Langue : | français anglais |
Titre complet : | Simulation multi-échelle de la gravure profonde du silicium par procédé Bosch / Amand Pateau; sous la direction de Ahmed Rhallabi ; co-encadrants Marie-Claude Fernandez, Mohamed Boufnichel, Fabrice Roqueta. |
Publié : |
[Lieu de publication inconnu] :
[éditeur inconnu]
, 2014 Nantes : Université de Nantes |
Accès en ligne : |
Accès Nantes Université
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Reproduction de : | Reproduction numérique de l'original imprimé datant de 2014 |
Note de thèse : | Thèse de doctorat : Génie des procédés, Plasmas froids : Nantes : 2014 |
Sujets : | |
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