Elaboration et caractérisation de matériaux en couches minces pour l'intégration de résistances et condensateurs de fortes valeurs en technologie CMOS
Cette thèse est consacrée au dépôt de films minces de matériaux à forte permittivité ou forte résistivité pour l intégration en technologie CMOS de capacités ou résistances performantes près des composants actifs. Des films de BST et TiTaO ont été élaborés par pulvérisation magnétron RF de cibles Ba...
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Auteurs principaux : | , , , , , , , , |
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Collectivités auteurs : | , , |
Format : | Thèse ou mémoire |
Langue : | français |
Titre complet : | Elaboration et caractérisation de matériaux en couches minces pour l'intégration de résistances et condensateurs de fortes valeurs en technologie CMOS / Fatiha Challali; sous la direction de Jean-Pierre Landesman ; co-encadrants Marie-Paule Besland, Dominique Averty, Alain Charpentier |
Publié : |
2010 |
Description matérielle : | 1 vol. (195 p.) |
Note de thèse : | Thèse de doctorat : Sciences des matériaux, électronique : Nantes : 2010 |
Sujets : | |
Documents associés : | Reproduit comme:
Elaboration et caractérisation de matériaux en couches minces pour l'intégration de résistances et condensateurs de fortes valeurs en technologie CMOS |
Particularités de l'exemplaire : | BU Sciences, Ex. 1 : Titre temporairement indisponible à la communication |
BU Sciences
| Cote | Prêt | Statut |
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Communication impossible | 2010 NANT 2030 | Empruntable | Disponible |
Communication impossible | 2010 NANT 2030 | Exclu du prêt | Disponible |