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Dépôt de couches minces de TiO2 SiO2 par association plasma et sol-gel : impact du procédé de dépôt et de la composition sur les propriétés, application à l'optique intégrée...
par
Mitronika Maria
,
Richard-Plouet Mireille
,
Goullet Antoine
,
Clergereaux Richard
,
Tixier Christelle
,
Hassouni
Khaled
,
Stafford Luc
Granier Agnès
2020
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Modélisation de la gravure profonde du silicium en plasmas fluorés : étude du procédé BOSCH : simulations et calibration expérimentale
par
Le Dain Guillaume
,
Rhallabi Ahmed
,
Cardinaud Christophe
,
Hassouni
Khaled
,
Yousfi Mohammed
,
Talneau Anne
,
Marcos Grégory
,
Boufnichel Mohamed
,
Roqueta Fabrice
2018
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