Développement de techniques de patterning avancées pour les filières CMOS-sub 10nm
Pour les technologies CMOS sub-10 nm, l industrie du semi-conducteur est confrontée aux limites de résolution de la lithographie conventionnelle. Différentes techniques alternatives ont été proposées afin de permettre l obtention de motifs avec des dimensions de l ordre de 20 nm. Dans cette thèse, n...
Enregistré dans:
Auteurs principaux : | , , , , , , , , |
---|---|
Collectivités auteurs : | , , , |
Format : | Thèse ou mémoire |
Langue : | français |
Titre complet : | Développement de techniques de patterning avancées pour les filières CMOS-sub 10nm / Aurélien Sarrazin; sous la direction de Christophe Cardinaud et de Nicolas Possémé et de Patricia Pimenta-barros |
Publié : |
2017 |
Accès en ligne : |
Accès Nantes Université
|
Note sur l'URL : | Accès au texte intégral |
Note de thèse : | Thèse de doctorat : Sciences et technologies de l'information et de la communication : Nantes : 2017 |
Sujets : |