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Dépôt à basse température de couches minces d'oxyde de silicium élaborées en plasma oxygène / organosilicié dans un réacteur hélicon
par
Vallée
Christophe
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Granier Agnès
1999
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Gravure du verre de chalcogénure GeSbSe en plasma fluoré ou à base de méthane
par
Meyer Thibaut
,
Cardinaud Christophe
,
Girard Aurélie
,
Vallée
Christophe
,
Nazabal Virginie
,
Carette Michèle
2019
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3
Développement de techniques de patterning avancées pour les filières CMOS-sub 10nm
par
Sarrazin Aurélien
,
Cardinaud Christophe
,
Possémé Nicolas
,
Pimenta-barros Patricia
,
Vallée
Christophe
,
Dussart Rémi
,
Le Brizoual Laurent
Chevolleau Thierry
Cayrefourcq Ian
2017
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